發(fā)布時間:2021-05-08
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在本研究中,使用金屬有機化學(xué)氣相沉積(MOCVD)(* 2)在Si襯底上制造了高質(zhì)量的GaN外延膜,以制造GaN諧振器。提出了應(yīng)變工程以改善時間性能。通過利用GaN和Si襯底之間的晶格失配和熱失配來實現(xiàn)應(yīng)變。因此,無需任何應(yīng)變?nèi)コ龑蛹纯芍苯釉赟i上生長GaN。通過優(yōu)化MOCVD生長過程中的降溫方法,在GaN上沒有觀察到裂紋,其晶體質(zhì)量與使用超晶格應(yīng)變?nèi)コ龑拥某R?guī)方法所獲得的晶體質(zhì)量相當。
經(jīng)過驗證的已開發(fā)的基于GaN的MEMS諧振器即使在600K時也能穩(wěn)定運行。當溫度升高時,它顯示出高的時間分辨率和良好的時間穩(wěn)定性,并且頻移很小。這是因為內(nèi)部熱應(yīng)變補償了頻移并減少了能量消耗。由于該設(shè)備小巧,高度靈敏并且可以與CMOS技術(shù)集成在一起,因此有望應(yīng)用于5G通信,IoT定時設(shè)備,車載應(yīng)用程序和高級駕駛員輔助系統(tǒng)。
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