EVG770 NT分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)

1. 簡(jiǎn)介

我們的EVG770分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺(tái)，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復(fù)制模板。結(jié)合金剛石車削或直接寫入方法，分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

2. 主要應(yīng)用

主要使用連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作（例如：微鏡頭制作）。

3. 特色

EVG770的主要功能包括精確的對(duì)準(zhǔn)功能，全緬的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。

4. 參數(shù)特征

1）高效的晶圓級(jí)光學(xué)微透鏡主制造，直至SmartNIL的納米結(jié)構(gòu)®

2）簡(jiǎn)單實(shí)施不同類型的主機(jī)

3）可變抗蝕劑分配模式

4）分配，壓印和脫模過程中的實(shí)時(shí)圖像

5）用于壓印和脫模的原位力控制

6）可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償

7）可選的自動(dòng)盒帶間處理

5. EVG770技術(shù)數(shù)據(jù)

1）晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米

2）解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

3）支持的工藝：軟UV-NIL納米壓印

4）曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2

5）對(duì)準(zhǔn)：頂面顯微鏡，用于實(shí)時(shí)重疊校準(zhǔn)≤±500 nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300 nm

6）弟一個(gè)印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

7）有效印記區(qū)域：長(zhǎng)達(dá)50 x 50毫米

8）自動(dòng)分離：支持

9）預(yù)處理功能：涂層：液滴分配（可選）

6. 納米壓印工藝結(jié)果

圖1  微鏡頭

圖2  納米壓印結(jié)果（100納米分辨率）