岱美公司收到了EVG6200NT光刻機(jī)的訂單

發(fā)布時(shí)間:2009-01-20

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       岱美公司收到了EVG6200 NT光刻機(jī)的訂單,該客戶來自華南地區(qū)知名的綜合性大學(xué),客戶的科研能力和研究水平經(jīng)過前兩年的基礎(chǔ)鋪墊開始迅速提高。目前承擔(dān)的科研任務(wù)以ZF項(xiàng)目為主,包括科技部提出的國家高技術(shù)重大研究計(jì)劃項(xiàng)目(863),國家重大基礎(chǔ)研究項(xiàng)目(973)和國家基金委的重大研究項(xiàng)目等,是973首席科學(xué)家單位??蛻糍徣氪藱C(jī)臺(tái)主要應(yīng)用于TFT-LCD項(xiàng)目的研究與開發(fā)。
       EVG6200NT是EVG公司2008年末才推出的新型號(hào)。
       EV Group NT系列新型: EVG620NT , EVG6200 NT。
       EVG推出了新一代的EVG620 NT和EVG6200 NT系列曝光機(jī)——EVG620NT的曝光范圍從蕞小5mm到150mm,EVG6200NT曝光范圍從3英寸到200mm。EVGNT系列高質(zhì)量的體現(xiàn)了新的技術(shù)發(fā)展水平,包括了一個(gè)花崗石底座,主動(dòng)隔離防震平臺(tái)和線性驅(qū)動(dòng)位移馬達(dá)使其可以達(dá)到更高的精度和產(chǎn)出。基于EVG靈活和多功能的曝光平臺(tái),在R&D和批量生產(chǎn)之間的工藝轉(zhuǎn)換(手動(dòng)模式到全自動(dòng))此新系統(tǒng)使用戶可以輕松地得以實(shí)現(xiàn)。批量生產(chǎn)的實(shí)現(xiàn)和曝光精度的提高——達(dá)到0.1um,再加上實(shí)時(shí)曝光精度的檢測(cè)系統(tǒng)(可選項(xiàng)),這樣為用戶提供了一個(gè)重要的更好的成本效益控制方案。
     (該系統(tǒng)將于2009年12月交付,安裝和和驗(yàn)收)
 
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